成都超邁光電科技有限公司為您提供鐘罩磁控濺射鍍膜機(jī)。主體結(jié)構(gòu)。全封閉框架結(jié)構(gòu),真空室為上提拉方式,機(jī)柜和主機(jī)為分體式。
真空度!5×10-5pa空載、經(jīng)充分烘烤除氣并充干燥氮?dú)猓┞剩簝?yōu)于1x10-7pa.l/s,壓升率優(yōu)于---標(biāo)準(zhǔn)。
真空配置。高速直聯(lián)旋片泵一臺(tái),抽速大于8l/s,配置尾氣處理裝置。分子泵一臺(tái),抽速1200l/s。
真空測(cè)量。兩路電阻規(guī),一路電離規(guī);電阻規(guī)和電離規(guī)均采用防爆型金屬封結(jié)真空規(guī)。
工件架系統(tǒng)。7工位2英寸行星工件盤(pán),6個(gè)在圓周上,1個(gè)放置在工件盤(pán)中心,可用于共濺射,中心工位設(shè)置加熱臺(tái),采用pid控制可烘烤加熱到700℃。工件盤(pán)由減速電機(jī)驅(qū)動(dòng)。
磁控濺射系統(tǒng)。配置3個(gè)φ50mm可折疊磁控靶可擴(kuò)展至4靶機(jī)構(gòu),安裝真空室底部,向上濺射成膜;每只靶和基片件距離手動(dòng)可調(diào);靶內(nèi)均通入冷卻水冷卻。
電源 。2套直流電源; 1套5全固態(tài)射頻電源;;一套200w直流偏壓電源;
充氣系統(tǒng)。配置三路供氣,二路分別配置流量控制器,線性±0.5 % f.s,重復(fù)精度±0.2% f.s,0-5v輸出,在觸摸屏上設(shè)置流量。
電氣控制系統(tǒng)。采用功能化模塊設(shè)計(jì),可選配西門(mén)子人機(jī)界面+西門(mén)子控制單元,濺射時(shí)間可以設(shè)定并---,能夠根據(jù)工藝需求自動(dòng)濺射。
可選配置:在線膜厚監(jiān)控系統(tǒng);垂直濺射與共濺射兼容;基片烘烤溫度至800攝氏度,滿足部分材料的真空原位退火或氣氛保護(hù)退火的需要;蒸發(fā)鍍膜與磁控濺射兼容;干式無(wú)油潔凈真空系統(tǒng);在線離子轟擊清洗;自動(dòng)擋板和手動(dòng)擋板;直流電源射頻電源的組合形式。
---說(shuō)明:根據(jù)用戶(hù)不同的工況和工藝要求,公司愿與客戶(hù)聯(lián)合研發(fā),共享---,公司致力于工藝與設(shè)備的---匹配。
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