射頻離子源RFICP 220用于透明導電薄膜及性能研究試驗

伯東企業(yè)上海有限公司為您提供射頻離子源rficp 220用于透明導電薄膜及性能研究試驗。某實驗室運用直流磁控濺射法, 采用 zao 陶瓷靶材, 結(jié)合正交試驗表通過改變制備工藝中的基片溫度、濺射功率、氧流量百分比等參數(shù), 在普通玻璃襯底上制備得到zno: alzao透明導電薄膜.
試驗設備:
伯東 kri ---射頻離子源 rficp 220 進行濺射, 選用 zao 陶瓷靶, 基片為普通玻璃, 普發(fā) pfeiffer 旋片泵 duo 3.
工藝要求:
靶與基片距離為5cm, 濺射時間為30 min
伯東 kri ---型射頻離子源 rficp 220 技術(shù)參數(shù):
portant;"> 離子源型號
portant;"> rficp 220
portant;"> discharge
portant;"> rficp 射頻
portant;"> 離子束流
portant;"> >800 ma
portant;"> 離子動能
portant;"> 100-1200 v
portant;"> 柵極直徑
portant;"> 20 cm φ
portant;"> 離子束
portant;"> ---
portant;"> 流量
portant;"> 10-40 sccm
portant;"> 通氣
portant;"> ar, kr, xe, o2, n2, h2, 其他
portant;"> 典型壓力
portant;"> < 0.5m torr
portant;"> 長度
portant;"> 30 cm
portant;"> 直徑
portant;"> 41 cm
portant;"> 中和器
portant;"> lfn 2000
理由:
---型射頻離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率; 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染
在整個實驗工藝中工作氣壓保持在 3x 10-1pa, 因此采用伯東 pfeiffer 旋片泵 duo 3.
伯東 pfeiffer 旋片泵 duo 3 技術(shù)參數(shù)如下:
伯東是德國 pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, kri 考夫曼離子源, 美國hva 真空閥門, 美國 intest 高低溫沖擊測試機, 美國 ambrell 感應加熱設備和日本 ns 離子蝕刻機等進口知---的---.
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