伯東 KRI霍爾離子源在樣品清洗前處理中的應用

伯東企業(yè)上海有限公司為您提供伯東 kri霍爾離子源在樣品清洗前處理中的應用。在進行鍍膜等工藝之前, 對原樣品的表面平整度/潔凈程度等參數(shù)會有不同的要求. 對于不達標的樣品需要進行前處理, kri霍爾離子源可以---的解決這類的問題.
kri霍爾離子源可以在低功耗的情況下進行大電流的工作, ---的處理樣品的清潔度/和平整度; 可以根據(jù)不同的工藝要求來控制樣品表面的光滑/粗糙程度; 一致且---地去除表面污染物, 以暴露原始基材, 達到清洗前處理的作用.
穩(wěn)定工藝并提高產(chǎn)品產(chǎn)量. kri離子源清洗在在真空室中進行, 基板表面清潔后可以立即沉積, 短停留時間暴露于真空背景清潔并活化基材表面比輝光放電更清潔, 生產(chǎn)率更高; 無需基板偏置/無需高壓, 消除了大多數(shù)腔室壁的濺射, 沒有額外的抽空, ---地提高了整體工藝的效率與.
---沈陽科學儀器股份有限公司客戶選用kri eh1000型霍爾離子源組裝磁控濺射設(shè)備對聚氨酯類的材料進行清洗前處理.
離子源清洗樣品的示意圖：
kri 霍爾離子源 eh 1000 特性:
即插即用備用陽極
高離子輔助鍍膜 iad 效率
無需水冷
sidewinder
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