和百裕金屬科技(圖)-鋁氧化生產(chǎn)廠家-上海鋁氧化

陽(yáng)極氧化工藝：

影響氧化膜的因素主要有：-濃度：通常采用15%～20%。濃度升高，膜的溶解速度加大，鋁氧化加工，膜的生長(zhǎng)速度降低，膜的孔隙率高，吸附力強(qiáng)，富有彈性，染色性好易于染深色，但硬度，耐磨性略差；而降低-濃度，則氧化膜生長(zhǎng)速度加快，膜的孔隙少，硬度高，耐磨性好。所以，用于防護(hù)，裝飾及純裝飾加工時(shí)，多使用允許濃度的上限，即20%濃度的-做電解液。

氧化膜的生長(zhǎng)過(guò)程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過(guò)程。一段a曲線ab段：無(wú)孔層形成。通電剛開始的幾秒到幾十秒時(shí)間內(nèi)，鋁表面立即生成一層致密的、具有高絕緣性能的氧化膜，厚度約0.01～0.1微米，為一層連續(xù)的、無(wú)孔的薄膜層，稱為無(wú)孔層或阻擋層，此膜的出現(xiàn)阻礙了電流的通過(guò)和膜層的繼續(xù)增厚。無(wú)孔層的厚度與形成電壓成正比，與氧化膜在電解液中的溶解速度成反比。因此，曲線ab段的電壓就表現(xiàn)出由零急劇增至*大值。