1、負(fù)性光刻膠
主要有聚酸系(聚酮膠)和環(huán)化橡膠系兩大類，前者以柯達(dá)公司的kpr為代表，后者以omr系列為代表。
2、正性光刻膠
主要以-醒為感光化臺物，以酚醛樹脂為基本材料。的有az-1350系列。正膠的主要優(yōu)點是分辨率高，缺點是靈敏度、耐刻蝕性和附著性等較差。
3、負(fù)性電子束光刻膠
為含有環(huán)-、乙烯基或環(huán)-物的聚合物。 的是cop膠，典型特性:靈敏度0.3~0.4μc/cm2 (加速電壓10kv時)、分辨率1.0um、 對比度0.95。-分辨率
的主要因素是光刻膠在顯影時的溶脹。
4、正性電子束光刻膠
主要為-、烯砜和-類這三種聚合物。的是pmma膠，典型特性:靈敏度40~ 80μc/cm2 (加速電壓20kv時)、分辨率0.1μm、 對比度2~3。
pmma膠的主要優(yōu)點是分辨率高。主要缺點是靈敏度低，此外在高溫下易流動，耐干法刻蝕性差。
以下內(nèi)容由賽米萊德為您提供，今天我們來分享光刻膠的相關(guān)內(nèi)容，希望對同行業(yè)的朋友有所幫助！
光刻開始于-種稱作光刻膠的感光性液體的應(yīng)用。 圖形能被映射到光刻膠上，然后用一個developer就能做出需要的模板圖案。 光刻膠又稱光致抗蝕劑，以智能管感光材料，在光的照射與溶解度發(fā)生變化。
光刻膠成份
光刻膠通常有三種成分:感光化合物、基體材料和溶劑。在感光化合物中有時還包括增感劑。根據(jù)光刻膠按照如何響應(yīng)紫外光的性可以分為兩類:負(fù)性光刻膠和正性光刻膠。
1、負(fù)性光刻膠
主要有聚酯膠和環(huán)化橡膠系兩大類，前者以柯達(dá)公司的kpr為代表，后者以omr系列為代表。
2、正性光刻膠
主要以-醌為感光化合物，以酚醛樹脂為基體材料。常用的有az- 1350系列。正膠的主要優(yōu)點是分辨率高，缺點是靈敏度、而刻蝕性和附著性等較差。
光刻膠的特點
1、在光的照射下溶解速率發(fā)生變化，利用-區(qū)與非-區(qū)的溶解速率差來實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移;
2、溶解抑制/溶解促進(jìn)共同作用;
3、作用的機(jī)理因光刻膠膠類型不同而不同;
光刻膠經(jīng)過幾十年不斷的發(fā)展和進(jìn)步，玻璃光刻膠報價，應(yīng)用領(lǐng)域不斷擴(kuò)大，衍生出非常多的種類，玻璃光刻膠供應(yīng)商，按照應(yīng)用領(lǐng)域，光刻膠可以劃分為印刷電路板(pcb)用光刻膠、液晶顯示(lcd)用光刻膠、半導(dǎo)體用光刻膠和其他用途光刻膠。其中，pcb 光刻膠技術(shù)壁壘相對其他兩類較低，而半導(dǎo)體光刻膠代表著光刻膠技術(shù)水平。
(1)半導(dǎo)體用光刻膠
在半導(dǎo)體用光刻膠領(lǐng)域，光刻技術(shù)經(jīng)歷了紫外全譜(300～450nm)、g 線(436nm)、i 線 (365nm)、深紫外(duv，包括 248nm 和 193nm)和極紫外(euv)六個階段。相對應(yīng)于各-波長的光刻膠也應(yīng)運而生，光刻膠中的關(guān)鍵配方成份，玻璃光刻膠，如成膜樹脂、光引發(fā)劑、添加劑也隨之發(fā)生變化，使光刻膠的綜合性能-地滿足工藝要求。
(2)lcd光刻膠
在lcd 面板制造領(lǐng)域，光刻膠也是極其關(guān)鍵的材料。根據(jù)使用對象的不同，可分為 rgb 膠(彩色膠)、bm膠(黑色膠)、oc 膠、ps 膠、tft 膠等。
光刻工藝包含表面準(zhǔn)備、涂覆光刻膠、前烘、對準(zhǔn)-、顯影、堅膜、顯影檢查、刻蝕、剝離、終檢查等步驟，以實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移，制造特定的微結(jié)構(gòu)。
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