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產(chǎn)品配置：
★樣片數(shù)量及尺寸： 1片φ8英寸或5片φ4英寸或傘形工件架用戶定制
★蒸發(fā)材料：金屬；非金屬；化合物等薄膜材料。
★蒸發(fā)腔體：高真空系統(tǒng)。
★蒸發(fā)不均勻性：≤±3%-±5％
★工件架：可旋轉(zhuǎn)，激光分子束外延設(shè)備，轉(zhuǎn)速可調(diào)
★加熱：常規(guī)加熱
★電子：e型，激光分子束外延設(shè)備報價，帶xy偏轉(zhuǎn)掃描
★電子坩堝：6穴，激光分子束外延設(shè)備，17cc
★膜厚監(jiān)控功能：石英晶控膜厚在線監(jiān)測與終點控制
★清洗功能：可選配離子源清洗
★器件一次成型復(fù)合實驗系統(tǒng)：通過復(fù)合mask系統(tǒng)與樣品對準系統(tǒng)，一次完成器件的多個工藝步驟
★檢測與控制光學(xué)特性的功能：可選配光控儀
★操作模式：全自動+半自動控制
以下是沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您一起分享的內(nèi)容，沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司生產(chǎn)電子束，歡迎新老客戶蒞臨。
產(chǎn)品特點/用途：
?設(shè)備一體化設(shè)計，占地面積小，性能穩(wěn)定，高，使用維護成本低；
?適用于實驗室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、有機膜，也可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗等；
?適用于制備光學(xué)薄膜、導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜等。
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濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面，通過動能傳輸，令靶材的分子原子有足夠的能量從靶材表面逸出，在產(chǎn)品表面凝聚形成薄膜。
用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強，薄膜的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料，但是對靶材的要求高，不能象電子一樣節(jié)約資源。
目前運用較多的有磁控濺射，激光分子束外延設(shè)備廠家，磁控濺射是指平行于陰極表面施加強電場，將電子約束在陰極靶材表面附近，提高電離效率。它是操作比較簡單的一種，所以運用非常廣。
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