1、負(fù)性光刻膠
主要有聚酸系(聚酮膠)和環(huán)化橡膠系兩大類(lèi)，光阻劑光刻膠供應(yīng)商，前者以柯達(dá)公司的kpr為代表，后者以omr系列為代表。
2、正性光刻膠
主要以---醒為感光化臺(tái)物，光刻膠，以酚醛樹(shù)脂為基本材料。的有az-1350系列。正膠的主要優(yōu)點(diǎn)是分辨率高，缺點(diǎn)是靈敏度、耐刻蝕性和附著性等較差。
3、負(fù)性電子束光刻膠
為含有環(huán)---、乙烯基或環(huán)---物的聚合物。 的是cop膠，典型特性:靈敏度0.3~0.4μc/cm2 (加速電壓10kv時(shí))、分辨率1.0um、 對(duì)比度0.95。---分辨率
的主要因素是光刻膠在顯影時(shí)的溶脹。
4、正性電子束光刻膠
主要為---、烯砜和---類(lèi)這三種聚合物。的是pmma膠，典型特性:靈敏度40~ 80μc/cm2 (加速電壓20kv時(shí))、分辨率0.1μm、 對(duì)比度2~3。
pmma膠的主要優(yōu)點(diǎn)是分辨率高。主要缺點(diǎn)是靈敏度低，此外在高溫下易流動(dòng)，耐干法刻蝕性差。
賽米萊德生產(chǎn)、銷(xiāo)售光刻膠，以下信息由賽米萊德為您提供。
1959 年被發(fā)明以來(lái)就成為半導(dǎo)體工業(yè)的工藝材料之一。隨后光刻膠被改進(jìn)運(yùn)用到印制電路板的制造工藝，成為 pcb 生產(chǎn)的重要材料。
二十世紀(jì) 90 年代，光刻膠又被運(yùn)用到平板顯示的加工制作，對(duì)平板顯示面板的大尺寸化、高精細(xì)化、彩色化起到了重要的推動(dòng)作用。
在半導(dǎo)體制造業(yè)從微米級(jí)、亞微米級(jí)、深亞微米級(jí)進(jìn)入到納米級(jí)水平的過(guò)程中，玻璃光刻膠哪里有，光刻膠也起著舉足輕重的作用。
總結(jié)來(lái)說(shuō)，光刻膠產(chǎn)品種類(lèi)多、性強(qiáng)，需要長(zhǎng)期技術(shù)積累，對(duì)企業(yè)研發(fā)人員素質(zhì)、行業(yè)經(jīng)驗(yàn)、技術(shù)儲(chǔ)備等都具有---要求，企業(yè)需要具備光化學(xué)、有機(jī)合成、高分子合成、精制提純、微量分析、性能評(píng)價(jià)等技術(shù)，具有---的技術(shù)壁壘。
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硅片制造中，化學(xué)光刻膠，光刻膠的目的主要有兩個(gè)：1將掩模版圖形轉(zhuǎn)移到硅片表面頂層的光刻膠中；2在后續(xù)工藝中，保護(hù)下面的材料例如刻蝕或離子注入阻擋層。
分類(lèi)
光刻膠的技術(shù)復(fù)雜，品種較多。根據(jù)其化學(xué)反應(yīng)機(jī)理和顯影原理，可分負(fù)性膠和正性膠兩類(lèi)。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠；反之，對(duì)某些溶劑是不可溶的，經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。圖1是正性膠的顯影工藝與負(fù)性膠顯影工藝對(duì)比結(jié)果示意圖 [2] 。
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